붕소 질화물의 화학 기상 합성

1979 년 Sokolowski는 저온 및 저압에서 입방정 질화 붕소 (CBN) 필름을 제조하기 위해 펄스 플라즈마 기술을 성공적으로 사용했습니다. 사용하는 장비가 간단하고 공정을 쉽게 구현할 수있어 빠르게 개발되고 있습니다. 다양한 기상 증착 방법이 등장했습니다. 전통적으로 말하면 주로 열 화학 기상 증착을 의미합니다. 실험 장치는 일반적으로 내열 석영 관과 가열 장치로 구성됩니다. 기판은 가열로 (열벽 CVD) 또는 고주파 유도 가열 (냉벽 CVD)에 의해 가열 될 수 있습니다. 반응 가스는 고온 기판의 표면에서 분해됨과 동시에 화학 반응이 일어나 막을 증착합니다. 반응 가스는 BCl의 혼합 가스입니다₃ 또는 B₂H₄및 NH₃.